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新型化学气相沉积或磊晶系统是针对CVD制程到缺点、元件结构、薄膜特性等需求所设计,主要正对阶梯覆盖能力、新颖材料与化合物半导体材料开发、异质接面磊晶、薄膜品质改善等需求所发展而出。