光掩模基板材料是生成掩模产品的基础材料，主要是指涂布了不透光材料和感光材料的玻璃基板衬底。基板衬底必须具备良好的光学透光特性、尺寸及化学稳定性，表面平整、光洁，无夹砂(Sand Inclusion)、 半透明点及气泡等微小缺陷。常用的光掩模基板材料有碱石灰白冕玻璃( White Crown Soda - Lime Glass)、低膨胀硼硅玻璃(Low Expansion Borosilicate Gass)和石英玻璃( Quartz Glass) 3种。

碱石灰白冕玻璃是一类具有良好的机械、光学特性，易于加工与制作且廉价的基片材料。虽然它的热膨胀系数比较高，但因其价格仅为低膨胀玻璃的约1/3,一直被广泛用于一般要求的光掩模基板。这类基板的用量占整个光掩模基板材料的2/3以上。用白冕玻璃制作的光掩模主要用于分立器件及中小规模集成电路的微细加工。

低膨胀硼硅玻璃具有比碱石灰白冕玻璃更好的温度特性和光学特性，其膨胀系数不及白冕玻璃的1/2,透光率高。虽然其价格高于白冕玻璃，但仅为石英玻璃的1/3,因而受到市场重视并逐步扩大应用范围。采用这种材料可以保证光掩模的尺寸精度，适合制作主掩模或高精度掩模。低膨胀硼硅玻璃基板的用量约占整个光掩模基板用量的1/4。

人工合成高纯石英玻璃是一种玻璃态的高纯二氧化硅。它具有优异的光学特性，即透射率高，尤其是在短波光的情况下，仍可保持90%以上的透射率: 其膨胀系数仅为白冕玻璃的1/20，温度、热稳定性和化学稳定性都优于前两种材料，是一种性能优异的光掩模基板材料，被广泛应用于超微细大规模集成电路光掩模制作。光掩模玻璃基板的组成、透射率及特性见表9-11至表9-13。