光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种感光材料，其中的感光成分在光的照射下会发生化学变化，从而引起溶解速率的改变;其主要作用是将掩模版上的图形转移到硅片等衬底上。光刻胶的工作原理如图9-29所示。首先，将光刻胶涂布在衬底片上，前烘去除其中的溶剂;其次，透过掩模版进行曝光，使曝光部分的感光组分发生化学反应;再则，进行曝光后烘烤(Post Exposure Bake, PEB);最后通过显影将光刻胶部分溶解(对于正性光刻胶，曝光区域被溶解;对于负性光刻胶，未曝光区域被溶解)，从而实现图形从掩模版到衬底片的转移。

光刻胶的组分主要包括成膜树脂、感光组分、微量添加剂和溶剂。其中，成膜树脂用于提供机械性能和抗刻蚀能力;感光组分在光照下发生化学变化，引起溶解速度的改变;微量添加剂包括染料、增黏剂等，用以改善光刻胶性能;溶剂用于溶解各组分，使之均匀混合。

目前大量使用的光刻胶既可以根据光化学反应机理分为传统光刻胶和化学放大型光刻胶，也可以按感光波长分为紫外、深紫外、极紫外、电子束、离子束及X射线类光刻胶。在实际应用中，有时直接采用其波长或发光光源为其命名，见表9-16。