抗反射涂层是指涂布在光刻胶底部或顶部的涂层，其主要作用是消除光刻胶一基片界面及光刻胶一空气界面的反射，降低由衍射引起的驻波效应对光刻胶性能的影响。涂布在光刻胶顶部的抗反射涂层为TARC,它可以在显影液中溶解；涂布在光刻胶底部的抗反射涂层为BARC。

抗反射涂层一般 与248nm深紫外(DUV)光刻胶或193nm光刻胶配套使用，通常由高分子树脂、染料、热致产酸剂、溶剂等组成;但是，用于248nm和193nm光刻胶的抗反射涂层的组成又有所不同，其所用染料的吸收峰是不同的。

底部抗反射涂层的主要作用是消除从基片反射到光刻胶中的光，阻止基片上的杂质向光刻胶中扩散;其性能要求包括具有较高的吸光系数，不溶于光刻胶溶剂，抗刻蚀速度小于光刻胶。

顶部抗反射涂层的主要作用是消除从光刻胶顶面反射回光刻胶中的光，阻止空气中的杂质向光刻胶中扩散，降低膜厚对光刻胶性能的影响，提高光刻胶线宽的均匀性;其性能要求包括折射率与光刻胶匹配，易溶于显影液。