离子电流控制系统（Ion Bean Current Control System）

在离子注入过程中，存在一个计量控制器（Dose Controller）以同时控制离子束的计量和注入参杂物条件的计算系统组合。它可以利用收集到的离子束电流，用积分器的原理来计算，最后获得注入wafer的剂量与注入的总时间。

Dose Controllor 在Implant中非常重要。它根据法拉第环收集到离子束后，在最短时间传回资料，然后依据wafer disk的状况和旋转速度与上下移动，经过控制回路重新计算，在注入过程即时修正上下移动的速度，达到均匀参杂，保证良率。