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薄膜机台(Thin Film)-1.2.7

信息来源:本站 | 发布日期: 2020-03-05 | 浏览量:
关键词:薄膜机台(Thin Film)-1.2.7
  1. 阶梯覆盖能力

一般需要进行薄膜沉积的制程并非使用平整的表面结构,原始表面已有其他结构,其结构上任何位置的薄膜沉积厚度皆由阶梯覆盖能力(Step Coverage)决定。

而阶梯覆盖能力则由物理、化学特性所决定,反应前驱物在气相中发生多次碰撞后到达基板表面,其沉积速率A区(270度)>B区(180度)>C区(90度)。同时也受反应前驱物的表面迁移率(Surface Mobility)决定,此因素由基板温度、前驱物种类(TEOS移动率高)及物理轰击(Ion Bombardment)能量等参数决定。


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