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单圆片刻蚀设备
单圆片刻蚀设备的工艺目的主要为薄膜刻蚀,按照工艺用途可以将其分为两类,即轻度刘性设备(用于去除高能离子注人所引起的表层薄膜损伤层)和牺牲层去除设备(用于圆片减薄或化学机械抛光后的阻挡层去除)。
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2021-09
EUV光刻机里的低调王者
因为缺芯、台积电和地缘政治等多种因素的影响,大家对半导体产业的关注度火速提升。这也让ASML这些原本在背后默默支持半导体产业发展的企业被“赶”到了台前。作为全球领先的半导体设备供应商,这家来自荷兰的企业提供了全球芯片生产都绕不开的关键设备——光刻机。
13
2021-09
单圆片刷洗设备
单圆片刷洗设备的主要工艺目的是去除圆片表面的颗粒
12
2021-09
中国台湾半导体人才告急
入秋以后,半导体业进入了人才招聘旺季。在当下火爆的产业环境下,招到足够数量的优质人才似乎成为了一种奢望,因此,各路企业绞尽脑汁,争取在人才争夺战中占据优势地位。
12
2021-09
单圆片清洗设备
单圆片清洗设备是基于传统的RCA清洗方法设计的,其工艺目的是清洗颗粒、有机物、自然氧化层、金属杂质等污染物。
11
2021-09
揭秘MPS在 AC/DC 方面的实力
开关电源在80年代替代线性电源之后,电源效率得到了极大的提升,尺寸也大大减小。现代开关电源有两种:AC/DC和DC/DC。就这两者的发展情况而言,DC/DC应用场景相对广泛,因此,DC/DC市场玩家的发展也受到了业界的瞩目。
11
2021-09
单圆片湿法设备
根据不同的工艺目的,单圆片湿法设备可分为三大类。第一类为单圆片清洗设备,其清洗目标物包括颗粒、有机物、自然氧化层、金属杂质等污染物。第二类为单圆片刷洗设备,其主要工艺目的是去除四片表面颗粒。第三类为单圆片刻蚀设备,主要用于去除薄膜。
10
2021-09
弹性供应,敏捷制造,双管齐下破局“缺芯”
随着智能制造的崛起,现代化的制造生产模式已是大势所趋。其中自动化生产与柔性生产成为了制造型企业两大发展方向,而如何打通生产与物流的自动化衔接,如何适应高频的产线变化,成为了企业转型升级的重中之重。
10
2021-09
槽式圆片刻蚀机
槽式圆片刻蚀机主要由FOUP传输模块、圆片装卸传输模块、排风进气模块、化学药液槽体模块、去离子水槽体模块、干燥槽体模块和控制模块构成,可同时对多盒圆片进行刻蚀,可以做到圆片干进干出。
09
2021-09
国产MOSFET,实力几何?
据Yole 最新发布的的硅MOSFET报告,中国厂商占硅MOSFET销售额的38%。除了IGBT、SiC、GaN等大火大热的功率器件之外,硅MOSFET也是我们不容忽视的领域,那么国内MOSFET企业的实力如何呢?
09
2021-09
槽式圆片清洗系统
槽式圆片清洗机主要由FOUP传输模块、四片装载/卸载传输模块,排风进气模块、化学药液槽体模块、去离子水槽体模块、干燥槽体模块和控制模块构成,它可以同时对多盒圆片进行清洗,可以做到圆片干进干出。
08
2021-09
高潮迭起的晶圆厂
近几天,三星、中芯国际和德州仪器(TI)接连爆出新建晶圆厂的重磅消息,又掀起了一波全球芯片产能扩充的小高潮。从这些龙头企业的布局来看,美国和中国大陆的晶圆厂建设规模越来越凸出,与此同时,韩国、日本、东南亚也在跟进,而欧洲在新建晶圆厂方面似乎跟不上节奏,也…
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2021-09
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